藥廠的環(huán)保問題一直是國家所關(guān)注的問題之一， 主要是制藥產(chǎn)生的廢水和廢氣含有細菌、酸堿廢氣和惡臭會對周圍的環(huán)境造成很大的污染，對人體的傷害也是巨大的。目前針對制藥廠的廢氣處理方法有吸附脫附處 理、催化燃燒、噴淋塔洗滌酸堿廢氣、雙堿法、低溫等離子+復(fù)合光催化、冷凝、生物膜法、脈沖電暈法等。那么廢氣處理設(shè)備采用什么處理方法可以達到《惡臭污 染物排放標準》(GB14554-93)中的二級標準值呢?這里介紹兩種比較好用的制藥廠廢氣處理技術(shù)。

　　1、生物過濾廢臭氣凈化工藝采用微生物降解技術(shù)，利用生長在濾料上的除臭微生物對H2S、SO2、NH3等及大部分揮發(fā)性的有機異味物進行降解，凈 化率可達98-99 %。系統(tǒng)壽命長達10年以上，能在室外-20℃-40℃的范圍正常工作?？梢匀赀\行，每天連續(xù)運行24 h，其處理過程不產(chǎn)生二次污染。而且系統(tǒng)占地面積小，節(jié)省土地資源。

　　2、低溫等離子+復(fù)合光催化是利用醫(yī)藥等行業(yè)在生產(chǎn)中產(chǎn)生的大流量、低濃度有機廢氣特點，核心是首先用低溫等離子體產(chǎn)生高能量電子，直接分解廢氣因子中 的有害氣體，使其迅速形成小分子碎片，降解生成CO2，H2O等，再利用光觸媒的作用，降解尚未完成降解的各類有害氣體，從而達到對車間生產(chǎn)廢氣較為滿意 的綜合降解效果。

　　在制藥廠利用低溫等離子+復(fù)合光催化凈化廢氣的整套設(shè)備的分布流程是：首先是廢氣源廢氣進入活性炭裝置與惡臭氣體中H2S發(fā)生反應(yīng).SW型高效除臭劑脫硫廢氣在進入PM水氣分離器去除水分在進進入等離子+光催化的反應(yīng)器被分解，生成二氧化碳和水風(fēng)機把處理達標的廢氣通過排氣管排出。

　　低溫等離子體技術(shù)是近年發(fā)展起來的廢氣處理新技術(shù)，低溫等離子體處理廢氣的原理為：當外加電壓達到氣體的放電電壓時，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離 子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分 解，以達到降解污染物的目的。

　　從上面我們可以看出低溫等離子+復(fù)合光催化廢氣處理設(shè)備具有電極與廢氣不直接接觸，不存在設(shè)備腐蝕問題，設(shè)備啟動、停止十分迅速，隨用隨開，氣阻小，適 用于高流速，大風(fēng)量的廢氣處理，介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生的低溫等離子體中，電子能量高，幾乎可以和所有的氣體分子作用，工藝已相對成熟。目前對廢氣處理這塊來 說，以后是趨勢。